三星打造17nm LPV工艺:28nm+14nm二合一

2021-10-13 10:36:46
来源:文章来源于网络

  半导体技术不仅是最前沿的7/5/3/2nm,因为许多芯片不需要太先进的工艺。它们通常不太复杂,但对成本非常敏感

  今天,三星宣布推出新的17lpv 17nm工艺,这意味着低功耗
  事实上,它是28nm工艺的进化版本,集成了28nm BEOL后端工艺和14nm FEOL前端工艺,即在28nm节点的基础上,增加了14nm FinFET立体声晶体管,后者的能效优势可以以低成本享受
 
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  三星表示,17nm LPV工艺比传统的28nm工艺可减少43%的芯片面积,这可以带来39%的性能提升或49%的能效提升
  三星17nm LPV工艺的量产时间尚未公布,但三星已宣布第一个服务对象是ISP图像信号处理器,它属于三星自己的CMOS传感器产品线
  此外,三星还创造了一个14纳米LPU工艺,这意味着低功耗的终极,但没有透露细节。也可以是28nm BEOL加14nm FEOL。